在半导体制造领域，光刻技术是实现集成电路图案转移的关键工艺。随着摩尔定律的持续推进，芯片图形特征尺寸不断缩小，光刻技术正面临着前所未有的挑战。其中，光学邻近效应导致晶圆上的光刻图形与掩模设计图形产生偏差，这使得基于计算光刻技术对掩模进行修正（OPC）以减弱光学

半导体 光刻 半导体光刻 ilt 庞琳 2025-11-01 02:13  4

Rigaku Holdings Corporation旗下的株式会社Rigaku（东京都昭岛市）宣布开发出了利用超高分辨率X射线显微镜对3D闪存缺陷进行无损检测和测量的突破性技术，并凭借此项研究成果获得了半导体光刻技术领域最佳论文奖“The Diana Nyy

半导体 光刻 rigaku 半导体光刻 昭岛市 2025-09-16 11:37  5